So sánh sự đóng rắn ẩm ở nhiệt độ thường của các Polysilazane bằng quang phổ Hồng ngoại Phản xạ - Hấp thụ

Tóm tắt

Hiện tượng đóng rắn của ba loại polysilazane (PSZ) khác nhau đã được khảo sát ở nhiệt độ thường với sự có mặt của ẩm. Kết quả theo dõi động học bằng quang phổ hồng ngoại với kỹ thuật Phản xạ - Hấp thụ FT-IRRAS cho thấy, đối với quá trình đóng rắn ẩm ở điều kiện môi trường, tốc độ đóng rắn tỷ lệ nghịch với tỷ lệ các nhóm thế alkyl trong cấu trúc phân tử PSZ và tỷ lệ thuận với sự có mặt của nhóm triethoxysilyl Si(OC2H5)3. Sự thủy phân nhóm Si(OC2H5)3 xảy ra với tốc độ nhanh hơn so với các nhóm Si-H và Si-N. Ngoài ra, sự hiện diện của nhóm Si(OC2H5)3 có ảnh hưởng tích cực đến quá trình đóng rắn của PSZ cũng như độ cứng của lớp phủ hình thành. Trong phạm vi nghiên cứu cũng cho thấy, các PSZ không chứa nhóm triethoxysilyl Si(OC2H5)3 nhưng có khả năng hình thành siloxane loại T nhiều hơn sẽ có độ cứng lớp phủ lớn hơn.